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4. WaferLine 예광탄 – 4.1 시연 및 Layout [Wafer 코팅 시뮬레이션] 본문
1. 유튜브 동영상 강의
2. WaferLine 예광탄 시연
WaferLine은 Wafer 추가, 코팅액 추가, 회전 속도 설정, 낙하 속도 설정, 코팅 시작 및 코팅한 Wafer를 확인하는 기능을 제공합니다.
여기에서는 WaferLine에 코팅해야 할 Wafer는 최대 200개를 보관할 수 있게 하드코딩할게요.
코팅액은 최대 20병을 보관할 수 있게 하드코딩합니다.
코팅액 1 병은 1000개의 쉘을 코팅할 수 있습니다.
코팅 완료한 Wafer는 보관에 제한이 없습니다.
![[그림] WaferLine 예광탄](https://blog.kakaocdn.net/dna/cnA5YG/btsDuUtqvOo/AAAAAAAAAAAAAAAAAAAAACXGBfLCs0S62WpNgXB-Pn66cgqHJOShQNw729l3rwom/img.png?credential=yqXZFxpELC7KVnFOS48ylbz2pIh7yKj8&expires=1764514799&allow_ip=&allow_referer=&signature=RjuCbT2yt%2Bo0QX%2Fxd7IN0%2FrE0Gg%3D)
3. WaferLine 예광탄 Layout
![[그림] WaferLine 예광탄 배치](https://blog.kakaocdn.net/dna/cyeuqA/btsDrFKiusE/AAAAAAAAAAAAAAAAAAAAAGcEP8yoUoA1yyW2AW4p-Myh4sLxetqOW34gm3vQfKqD/img.png?credential=yqXZFxpELC7KVnFOS48ylbz2pIh7yKj8&expires=1764514799&allow_ip=&allow_referer=&signature=dMPEHedwHF2MFNB5EAAyO1Z9aRY%3D)
WaferLine 예광탄의 자식 컨트롤을 배치합시다.
Wafer(tbar_wafer)와 코팅액(tbar_pr), 회전속도(tbar_spin) 및 낙하속도(tbar_drop) 설정은 TrackBar 컨트롤로 지정합니다.
그리고 이들의 설정 값은 Label로 표시하게 합니다.(lb_wafer, lb_pr, lb_spin, lb_drop)
Wafer와 코팅액 추가를 위한 버튼을 제공합니다.(btn_wafer, btn_pr)
코팅하기 전 Wafer의 개수를 표시할 Label(lb_wcnt)과 DPanel(pn_wafer)을 제공합니다.
보유 코팅액의 병수를 표시할 Label(lb_pcnt)과 DPanel(pn_pr)을 제공합니다.
코팅 시작 버튼(btn_start)를 제공합니다.
현재 코팅에 사용하는 코팅액의 남은 양을 표시할 DPanel(pn_npr)을 제공합니다.
현재 코팅 중인 Wafer를 표시할 WaperPanel(pn_nwafer)를 제공합니다.
코팅 완료한 Wafer 개수를 표시할 Label(lb_awcnt)를 제공합니다.
코팅 완료한 Wafer를 참조할 수 있는 ComboBox(cb_awafer)를 제공합니다.
코팅 완료한 Wafer의 품질 수준을 표시할 WaferPanel(pn_awafer)를 제공합니다.
가장 최근에 발생한 정보를 표시할 StatusStip 컨트롤을 추가하고 Label 형태의 ToolStrip(ts_lb)을 추가합니다.
주기적으로 코팅할 수 있게 타이머(tm_coating)을 추가합니다.
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